中国新型显示行业自主化进程迎来重大进展！近日，由华南理工大学机械与汽车工程学院、华南理工大学国家大学科技园顺德创新园区钇芯微负责人肖舒副教授团队主导设计的中国首条第8.6代AMOLED金属掩膜版产线核心设备——金属掩膜版镀膜装备，正式进驻江苏镇江句容经济开发区生产企业。
这一重大进展实现AMOLED金属掩膜版最高水平从0到1的国内首创，成功填补国内行业空白，标志着我国在AMOLED金属掩膜版领域达到国际领先水平，为我国新型显示产业链自主可控进一步奠定坚实基础。
中国首条第8.6代AMOLED金属掩膜版产线核心设备——金属掩膜版镀膜装备，正式进驻江苏镇江句容经济开发区生产企业。
OLED柔性显示技术凭借其可弯曲、响应速度快、高色域、宽视角等卓越性能，正在大规模取代传统显示技术。然而，作为OLED柔性屏的生产与消费大国，我国曾长期面临核心材料供应困境。
肖舒介绍，以TFE CVD掩膜版为例，该掩膜版需同时满足高精度、耐NF3/CF4等离子体腐蚀以及耐击穿等特性，是OLED柔性屏薄膜封装制程中的关键部件。2020年前，该产品的供应100%依赖外国进口。
为解决这个国产OLED柔性屏生产中的问题，2018年8月，肖舒团队与南京高光半导体材料有限公司联手，由南京高光负责金属掩膜版研发，肖舒团队负责TFE CVD掩膜板镀膜技术攻关，一场攻克技术难题的联合攻坚战就此打响......
700多个日夜的坚守，超千次工艺参数的反复调试，团队成员们面对重重技术难题，从未退缩。从等离子体放电稳定性到膜厚均匀性控制难题，从核心溅射阴极瓶颈到系统集成调试困境，团队凭借坚韧的毅力和创新的思维，逐一攻克这些技术壁垒。历时两年，团队最终完成了具有自主知识产权的基于自适应PEM控制及瞬态性能反馈的磁控溅射镀膜生产线。
半导体设备用介质窗氧化物镀膜产线。
这套“中国装备”有多厉害？可以从一组数据中找寻答案：
采用华南理工科研团队研发的核心溅射装备及工艺生产的Al₂O₃涂层，产能可达到国外同类型产线效率的2倍；
宽幅1200mm膜厚均一性2.5%，较国外产品的5%有着明显提升；
CVD Mask加工精度、耐击穿及耐腐蚀性能均满足客户需要。
肖舒在创交会上介绍团队产业化进展。
华南理工科研团队技术突破的涟漪效应正在扩散。据了解，该团队正将核心技术向半导体装备领域延伸，联合南京高光公司在华南理工大学国家大学科技园顺德创新园区建设半导体零部件表面新型耐刻蚀涂层研发及中试产线，瞄准当前国内紧缺的半导体设备介质窗、气体喷嘴、氙离子聚焦装置等耐刻蚀产品市场，重点对接北方华创、华为、中微半导体等国内半导体设备厂商需求。
“预计2年内中试中心将扩展到2000平方米，与合作企业一道拓展国内半导体装备零部件市场，以期未来将辐射全国半导体产业链。”肖舒说。